久国产视频,欧美激情综合五月色丁香,色偷偷激情日本亚洲一区二区

產品分類

Product Category

磁控濺射

查看全部

精準控膜，高效量產！磁控濺射系統(tǒng)適配多行業(yè)鍍膜需求原子層沉積和磁控濺射的區(qū)別電子束光刻系統(tǒng)在半導體制造中的具體應用有哪些？看完本篇你就會對化學氣相沉積系統(tǒng)有更多了解關于原子層沉積的優(yōu)勢及應用領域分享 3維超景深顯微鏡使用指南

詳細介紹

品牌	其他品牌	應用領域	環(huán)保,化工,電子/電池

金屬熱蒸鍍設備

熱蒸發(fā)是物理氣相沉積（PVD）中常用方法，也是PVD簡單的形式之一。使用電加熱的蒸發(fā)源可用於沉積大多數的有機和無機薄膜，其中以電阻式加熱法最為常見的。這些蒸發(fā)源的優(yōu)點為它們可以提供一種簡單的薄膜沉積方法，以電流通過其容納材料的舟為方式，從而加熱材料。當沉積材料的蒸氣壓超過真空室的溫度時，材料將開始蒸發(fā)並沉積到基板上。

SYSKEY金屬熱蒸鍍設備的熱蒸發(fā)可以精準的控制蒸發(fā)速度，且薄膜的厚度和均勻度小於+/- 3％。

離子源可用於基板清潔和加速材料的蒸發(fā)速度，並且離子源在材料沉積過程中可幫助沉積並使沉積後的薄膜更為緻密。

應用領域	腔體
金屬材料研究。奈米薄膜。太陽能電池。	客製化的腔體尺寸取決於基板尺寸和其應用。寬大的前開式門，並有兩個視窗和視窗遮版用於觀察基材和蒸發(fā)源。腔體的極限真空度約為10^-8 Torr。
配置和優(yōu)點	選件
客製化的基板尺寸，最大直徑為12寸晶圓或470 x 370 mm²(玻璃)。寬大的前開式門，並有兩個視窗和視窗遮版用於觀察基材和蒸發(fā)源。優(yōu)異的薄膜均勻度小於±3％。具有順序操作或共沉積的多個蒸發(fā)源。基板可加熱到800°C。利用載臺旋轉來改善薄膜沉積之品質。基板至蒸發(fā)源之間距為可調式的。每個蒸發(fā)源和基材均有安裝遮板。	可以與傳送腔、機械手臂和手套箱整合在一起。結合離子源、濺鍍槍、電子束、等離子清潔...。基板冷卻。殘留氣體分析儀。

產品咨詢

金屬熱蒸鍍設備

留言框

產品：

您的單位：

您的姓名：

聯系電話：

常用郵箱：

省份：

詳細地址：

補充說明：

驗證碼：